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Dyno®-mill ECM戴諾磨 砂磨機/珠磨機
詳細信息| 詢價留言瑞士華寶 (WAB) 砂磨機/珠磨機
Dyno®-mill ECM戴諾磨產(chǎn)品編號: Dyno®-mill ECM 產(chǎn)品名稱: Dyno®-mill ECM戴諾磨
技術革新帶來研磨效率的提高
在研磨界中,早期的研磨機能量分布差,經(jīng)重新設計的分散盤,研磨區(qū)將至少增加3倍,
這將減少回混,提高工作效率。人們?nèi)諠u意識到,要注重質(zhì)量和保護環(huán)境且生產(chǎn)要趨向合理化,以致對研磨和分散技術的要求也大大增加,從而引發(fā)設計上的根本變化。有現(xiàn)行的工序需要在各方面進行優(yōu)化。新產(chǎn)品技術均要求高效率的生產(chǎn)程序及設備。
為了達到這些要求,新的研磨和分散概念的發(fā)展是必需的。目前的主要任務是,除了優(yōu)化循環(huán)式和一般通道式工藝外,還要發(fā)展高效率的管道式工藝。
在這些工藝中,循環(huán)式工藝需要很高的流量,而且保養(yǎng)和清洗要盡量簡化。與此同時,輸入的能量,需有效率地轉變?yōu)榉稚⒆饔。隨著高效率循環(huán)式研磨機 ECM的發(fā)展,它的核心部分是戴諾加速器,在漫長的改進道路上,瑞士華寶WAB公司已踏出重要的一步。
循環(huán)式工藝
在循環(huán)式工藝中,產(chǎn)品被輸送至研磨缸后回流到原來的儲存缸,和未經(jīng)處理的材料混合,直至達到所需的質(zhì)量為止。這個工藝適用于使用普通道式操作時須反復多次研磨的物料。 通過循環(huán)操作,技術設備和清洗工作的費用將大大減少。然而,這個工藝的效率依靠高流量,以保證在一定的時間內(nèi)得到某一數(shù)量的循環(huán)次數(shù)。
在高效率的管道工藝中,某些產(chǎn)品的分散要求較低,在這種情況下,研磨機的生產(chǎn)能力是由其它的*大流量限制。高質(zhì)量產(chǎn)品需要快速磨多幾遍,這叫做鐘擺式工藝。在這種情況下,流量經(jīng)常由粘度限制。拌珠磨機(如圖1)在市場上為人熟悉,可用來進行連續(xù)操作。它有一個臥式圓柱形研磨缸,攪拌軸上裝有一些攪拌元件,它們是帶開口的扁平分散盤。研磨缸內(nèi)放入形狀大小均勻的研磨珠(0.3~3mm)至85%左右,這些研磨珠被轉動的分散盤帶動。
圖1)在循環(huán)式和高效率的通道式的工藝中,研磨介質(zhì)會被材料的強大物流推至出口處,且研磨介質(zhì)會堆積在分離裝置處。
研磨缸出口處的壓力,產(chǎn)品溫度和出口附近機械磨損的增加,都是由研磨介質(zhì)的撓度引起的。攪拌分散盤上的循環(huán)基孔可以部分卸荷,但會導致逆混的不利因素,因而會引起較大的產(chǎn)品顆粒分布。
為了避免這些缺陷,一個可以在研磨缸內(nèi)穩(wěn)定研磨珠的攪拌器已研制成功。根據(jù)它的操作原理,以研磨缸的軸向穩(wěn)定研磨珠和防止逆混,收窄停留時間分布,產(chǎn)生較高的能量密度。這個元件叫做戴諾加速器(如圖2a),已被應用于ECM系列中(如圖2b)。
圖2a)
圖2b)理論背景能量密度是可達到細度的指標。根據(jù)研磨流程,使用分散盤研磨機的研磨發(fā)生在兩個高能量密度的區(qū)域。
*個區(qū)域幾乎圍繞攪拌分散盤,而第二個區(qū)域在研磨缸內(nèi)壁。研磨介質(zhì),通過攪拌分散盤吸收運動能量,朝著研磨缸內(nèi)壁被加速運動。
當沖擊其它的研磨介質(zhì)或研磨缸內(nèi)壁時,這種能量用來磨碎粒子。攪拌分散盤上有很強的剪切力。另外,研磨介質(zhì)通過切向速度的相互碰撞,在研磨微粒間釋放運動能量。在渦旋的流動中,進入研磨室的能量中,有百分之九十被用于分散和碰撞,這些區(qū)域大約占研磨缸容積的百分之十。…../2
流程預測表明,研磨介質(zhì)不是完全被傳送到攪拌軸上,然而,在這個區(qū)域,會發(fā)現(xiàn)末磨過的物質(zhì),那只能通過外部的作用力讓它們回到主流中。
這個低效的能量密度分布,和不合宜的傳遞,迫使結構較大的研磨機安裝很多攪拌分散盤和放入較多的研磨珠,才達到所需的效率。
高能量密度作用區(qū)如果看一下戴諾加速器,就可以發(fā)現(xiàn)四個主要高能量密度作用區(qū),它們在加速器的帶動分散盤和槳葉之間以及在研磨缸內(nèi)壁和導向分散盤之間(如圖2C)。
圖2c)研磨珠和產(chǎn)品的混合物被牽進攪拌軸區(qū),因為戴諾加速器的結構通過加速器內(nèi)的許多槳葉徑向地加速到外部。
通過出/入口的壓力差,一個內(nèi)循環(huán)建立在軸向水平上,此內(nèi)循環(huán)要比物料流強得多。普通分散盤會出現(xiàn)攪拌分散軸作用不到的區(qū)域,而用戴諾加速器會產(chǎn)生流動壓力至這些地方進入研磨室能量用來碰撞,這些碰撞區(qū)域占研磨室容量的30%~40%。
(如圖3) 表明戴諾加速器的碰撞效果與普通分散盤相比,所用產(chǎn)品是70%碳酸鈣懸浮液。輸入相同的能量時,微粒大小的分布。與普通攪拌珠磨機相比(如圖4),一個較好的停留時間分布。
單位能量經(jīng)常被認為是產(chǎn)品的作用強度和作用頻率。Ev = Md / Vs ?ωt
研磨介質(zhì)的運動引起的碰撞,扭矩Md越大,產(chǎn)生的碰撞力也就越大,這是由于作用強度引起。
角速度 ω 增加,碰撞時間t越長,介質(zhì)可能達到活動碰撞空間的機會也就越大,碰撞頻率也就越頻繁。這也表明,戴諾加速器的作用力大,是因為寬大的高能量密度區(qū)和通過內(nèi)部循環(huán)產(chǎn)生的作用力次數(shù)多。
戴諾加速器的流量關系圖5表明,戴諾加速器槳葉上傳送媒體的運動與速度之間的關系。
產(chǎn)品和研磨珠混合物進入近軸的中心部分,被徑向轉動的戴諾加速器牽引,通過槳葉通道環(huán)繞內(nèi)部,流動到外部,混合物在離心力的作用下,穿過槳葉通道。
速度U1和U2決定離心力的大小,因為外部通道橫截面,大于內(nèi)部通道橫切面,根據(jù)連續(xù)程式有W1 > W2
在戴諾加速器中,槳葉的壓力會引起速度的變化,在加速器的內(nèi)外圓周之間,角動量的增加會決定有多少能量傳送至槳葉通道內(nèi)的混合物。為了保持*低的壓力損失,槳葉設計使混合物進入徑向戴諾加速器的速度V1不受限制,出口角度決定作用強度。
結構方案研磨室和戴諾加速器的幾何比例,決定了碰撞效率,分散,流量,損耗以及熱量的產(chǎn)生。
入口、泵、出口的比例,一定要符合*優(yōu)化關系。否則,泵效應或內(nèi)部循環(huán)會受到干擾!./3根據(jù)這些因素,槳葉的位置和形狀是非常重要的,槳葉太平不能研磨而太陡會導致太激的
運動,加速本身的磨損。戴諾加速器的幾何形狀是經(jīng)多次實驗測試和大量控制理論的試驗基礎上得出的結果。
所有這些結果和構造已溶合于ECM 系列中,緊密的設計是由于戴諾加速器可產(chǎn)生高能量密度……./3低能量密度區(qū)可避免出現(xiàn)。選用陶瓷和其它高級材料,可達到*佳冷卻性能。雖然能量密度高,但磨損少。一般研磨機的填充量達到 90%,而使用戴諾加速器,可以減到 70% 以下。表1,表明一些實際試驗數(shù)據(jù)。
ECM的作用強度,可被調(diào)整。據(jù)此原理,可實際應用于涂料和各種工業(yè),很多這些行業(yè),不是真正需要研磨,就是需要破碎聚集和燒結成塊的產(chǎn)品。研磨珠和產(chǎn)品混合物通過戴諾加速器可產(chǎn)生強大的液動力,也會導致很高的剪切力。
一種全新幾何形狀的攪拌槳葉,可有效地用于分散和研磨,并成功地應用在ECM中。戴諾加速器有很多不同的功能且新用途正處于不斷開發(fā)中。
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